著錄信息
- 專利名稱：一種用于制備單晶硅絨面的酸腐蝕溶液及其使用方法
- 專利類型：發(fā)明
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN200910157192.6
- 公開(公告)號(hào)：CN101717937B
- 申請(qǐng)日：20091224
- 公開(公告)日：20120222
- 申請(qǐng)人：浙江向日葵光能科技股份有限公司
- 發(fā)明人：丁國(guó)軍,黃燕,趙明
- 申請(qǐng)人地址：312071 浙江省紹興市袍江工業(yè)區(qū)三江路
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN330600
- 專利權(quán)人：浙江向日葵光能科技股份有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：C23F1/24
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：紹興市越興專利事務(wù)所 33220
- 代理人：張謙
- 審查員：彭梅香
- 國(guó)際申請(qǐng)：無
- 國(guó)際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無
- 分案申請(qǐng)：無
關(guān)鍵詞
酸腐蝕,氧化劑,氫氟酸,單晶硅,反應(yīng)時(shí)間,硝酸鉀,電池光電轉(zhuǎn)化效率,制備太陽(yáng)能電池,制備技術(shù)領(lǐng)域,太陽(yáng)能電池,單晶硅片,反應(yīng)溫度,腐蝕反應(yīng),氟化銨,線切割,硝酸銨,配制,切割,損傷,協(xié)調(diào)
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