著錄信息
- 專利名稱：一種卷對卷等離子體增強化學(xué)氣相沉積裝置
- 專利類型：發(fā)明
- 申請?zhí)枺?/em>CN200910181458.0
- 公開(公告)號：CN101629283B
- 申請日：20090716
- 公開(公告)日：20110427
- 申請人：江蘇雙登集團有限公司
- 發(fā)明人：郝三存,邵雙喜,李丹,段和勛
- 申請人地址：225526 江蘇省姜堰市梁徐鎮(zhèn)雙登科工園1號
- 申請人區(qū)域代碼：CN321284
- 專利權(quán)人：江蘇雙登集團有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：C23C16/54,C23C16/50
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機構(gòu)：南京天華專利代理有限責(zé)任公司 32218
- 代理人：徐冬濤;瞿網(wǎng)蘭
- 審查員：彭梅香
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
真空室,柔性基體材料,卷繞,傳送導(dǎo)軌,柔性基體,沉積,表面張力,等離子體增強化學(xué)氣相沉積,傳送過程,精確控制,快速冷卻,運輸效率,真空腔室,加熱室,卷對卷,冷卻輥,熱收縮,張緊輪,導(dǎo)軌,張力,平整
網(wǎng)站提醒和聲明
免責(zé)聲明：
本站為會員提供信息存儲空間服務(wù),，由于更新時間等問題,，可能存在信息偏差的情況，具體請以品牌企業(yè)官網(wǎng)信息為準(zhǔn),。如有侵權(quán),、錯誤信息或任何問題,，請及時聯(lián)系我們,，我們將在第一時間刪除或更正,。
版權(quán)聲明>>
修改>>
申請刪除>>
網(wǎng)頁上相關(guān)信息的知識產(chǎn)權(quán)歸網(wǎng)站方所有(包括但不限于文字、圖片,、圖表,、著作權(quán),、商標(biāo)權(quán)、為用戶提供的商業(yè)信息等),，非經(jīng)許可不得抄襲或使用,。本站不生產(chǎn)產(chǎn)品,、不提供產(chǎn)品銷售服務(wù),、不代理、不招商,、不提供中介服務(wù)。本頁面內(nèi)容不代表本站支持投資購買的觀點或意見，頁面信息僅供參考和借鑒,。
提交說明：
快速提交發(fā)布>>
查看提交幫助>>
注冊登錄>>
