著錄信息
- 專利名稱：一種晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置
- 專利類型：實用新型
- 申請?zhí)枺?/em>CN201620121534.4
- 公開(公告)號：CN205556200U
- 申請日：20160216
- 公開(公告)日：20160907
- 申請人：山東浪潮華光光電子股份有限公司
- 發(fā)明人：王強,任忠祥,李香芝,徐現(xiàn)剛
- 申請人地址：261061 山東省濰坊市高新區(qū)金馬路9號
- 申請人區(qū)域代碼：CN370705
- 專利權(quán)人：山東浪潮華光光電子股份有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：C02F1/78
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機構(gòu)：濟南日新專利代理事務所 37224
- 代理人：王書剛
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
處理槽,廢水,臭氧發(fā)生器,臭氧輸入管,有機物,微孔曝氣盤,氧化降解,臭氧,環(huán)境無污染,尾氣排放管,污水排放管,臭氧降解,分散氣泡,晶片磨削,污水進管,有效降解,廢水COD,二氧化碳,磨削,氣源,伸入,種晶,沉淀,過濾
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