著錄信息
- 專利名稱：二維光子晶體腔及通路加/減濾波器
- 專利類型：發(fā)明
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN200410004875.5
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN100365453C
- 申請(qǐng)日：20040210
- 公開(kāi)(公告)日：20080130
- 申請(qǐng)人：京都大學(xué)長(zhǎng),住友電氣工業(yè)株式會(huì)社
- 發(fā)明人：野田進(jìn),淺野卓,赤羽良啟
- 申請(qǐng)人地址：日本東京
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：JP
- 專利權(quán)人：京都大學(xué)長(zhǎng),住友電氣工業(yè)株式會(huì)社
- 洛迦諾分類：無(wú)
- IPC：G02B6/12,G02B6/24,H04B10/12
- 優(yōu)先權(quán)：JP032473/2003 20030210
- 專利代理機(jī)構(gòu)：中國(guó)國(guó)際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所
- 代理人：秦晨
- 審查員：陳雯菁
- 國(guó)際申請(qǐng)：無(wú)
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：無(wú)
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無(wú)
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
折射率材料,光子晶體,點(diǎn)缺陷,切片,濾波器,二維點(diǎn)陣,高分辨率,折射率,波導(dǎo)
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