著錄信息
- 專利名稱：一種化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
- 專利類型：實(shí)用新型
- 申請?zhí)枺?/em>CN201520068921.1
- 公開(公告)號：CN204455284U
- 申請日：20150130
- 公開(公告)日：20150708
- 申請人：上海和輝光電有限公司
- 發(fā)明人：張明福,徐平,卞楷周
- 申請人地址：201500 上海市金山區(qū)金山工業(yè)區(qū)大道100號1幢二樓208室
- 申請人區(qū)域代碼：CN310116
- 專利權(quán)人：上海和輝光電有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：C23C16/44
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
- 代理人：馮志云
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
電極,滾輪,基板,滾輪組件,上表面,驅(qū)動部件,化學(xué)氣相沉積,長寬尺寸,沉積物質(zhì),成膜過程,電弧放電,基板面積,軸線方向,側(cè)面,阻擋板,偏移,成膜,對位,頂部,接觸,周圍
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