著錄信息
- 專利名稱：印章（半孔）
- 專利類型：外觀設(shè)計
- 申請?zhí)枺?/em>CN201430348162.5
- 公開(公告)號：CN303114230S
- 申請日：20140919
- 公開(公告)日：20150225
- 申請人：西泠印社集團有限公司
- 發(fā)明人：應(yīng)頡
- 申請人地址：310000 浙江省杭州市下城區(qū)西湖文化廣場32號5樓
- 申請人區(qū)域代碼：CN330103
- 專利權(quán)人：西泠印社集團有限公司
- 洛迦諾分類：19-02
- IPC：無
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機構(gòu)：杭州天欣專利事務(wù)所(普通合伙) 33209
- 代理人：張狄峰
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
摘要
1．本外觀設(shè)計產(chǎn)品的名稱：印章（半孔）,。
2．本外觀設(shè)計產(chǎn)品的用途：作為印章使用,。
3．本外觀設(shè)計的設(shè)計要點：在于設(shè)計1和設(shè)計2的整體形狀,，設(shè)計1與設(shè)計2為相似設(shè)計,，其中設(shè)計1為基本設(shè)計,。
4．最能表明設(shè)計要點的圖片或者照片：設(shè)計1主視圖,。
5．設(shè)計1后視圖與設(shè)計1主視圖對稱,，設(shè)計2后視圖與設(shè)計2主視圖對稱,，設(shè)計1右視圖與設(shè)計1左視圖對稱,，設(shè)計2右視圖與設(shè)計2左視圖對稱,，故省略設(shè)計1后視圖、設(shè)計2后視圖,、設(shè)計1右視圖和設(shè)計2右視圖,。
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