一,、什么是特種工業(yè)氣體

特種氣體(Specialty gases)：指那些在特定領域中應用的,對氣體有特殊要求的純氣,、高純氣或由高純單質(zhì)氣體配制的二元或多元混合氣。特種氣體是工業(yè)氣體中的一個新興門類,，是隨著近年來國防工業(yè),、科學研究、自動化技術,、精密檢測,，特別是微電子技術的發(fā)展而發(fā)展起來的。特種氣體從應用領域上分為：電子氣體、高純氣體,、標準氣體,。廣泛用于電子、電力,、石油化工,、采礦、鋼鐵,、有色金屬冶煉,、熱力工程、生化,、環(huán)境監(jiān)測,、醫(yī)學研究及診斷、食品保鮮等領域,。

二,、特種氣體有哪些

近年來，隨著下游應用領域的逐步擴展,，特種氣體的品種也與日俱增,，據(jù)不完全統(tǒng)計，現(xiàn)有單元特種氣體達260種左右,，特種氣體已成為高科技應用領域不可缺少的基本原料,。特種單一氣體有260種，其中電子氣體114種（實際常用的約44種）,，有機氣體65種,，無機氣體35種，鹵碳素氣體29種,，同位素氣體17種,。

三、260種單元特種氣體的用途

1,、氮氣-N2,，純度要求>99.999%，用作標準氣,、在線儀表標準氣,、校正氣、零點氣,、平衡氣,；用于半導體器件制備工藝中外延、擴散,、化學氣相淀積,、離子注入,、等離子干刻、光刻,、退火,、搭接、燒結等工序,；電器,、食品包裝、化學等工業(yè)也要用氮氣,。

2,、氧氣-O2，>99.995%,，用作標準氣在線儀表標準氣,、校正氣、零點氣,；還可用于醫(yī)療氣,；在半導體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散,、化學氣相淀積,、等離子干刻等工序；以及用于光導纖維的制備,。

3,、氬氣-Ar，>99.999,，用作標準氣,、零點氣、平衡氣,；用于半導體器件制備工藝中晶體生長,、熱氧化、外延,、擴散,、氮化、噴射,、等離子干刻、載流,、退火,、搭接、燒結等工序,；特種混合氣與工業(yè)混合氣也使用氫,。

4,、氫氣-H2，>99.999%,，用作標準氣,、零點氣、平衡氣,、校正氣,、在線儀表標準氣；在半導體器件制備工藝中用于晶休生長,、熱氧化,、外延、擴散,、多晶硅,、鎢化、離子注入,、載流,、燒結等工序；在化學,、冶金等工業(yè)中也有用,。

5、氦氣-He,，>99.999%,，用作標準氣、零點氣,、平衡氣,、校正氣、醫(yī)療氣,；于半導體器件制備工藝中晶體生長,、等離子干刻、載流等工序,；另外,，特種混合氣與工業(yè)混合氣也常用。

6,、氯氣-Cl2,，>99.96%，用作標準氣,、校正氣,；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻,、熱氧化等工序,；另外,，用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白,、下業(yè)廢品,、污水、游泳池的衛(wèi)生處理,；制備許多化學產(chǎn)品,。

7、氟氣-F2,，>98%,，用于半導體器件制備工藝中等離子干刻；另外,，用于制備六氟化鈾,、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等,。

8,、氨氣-NH3，>99.995%,，用作標準氣,、校正氣、在線儀表標準氣,；用于半導體器件制備工藝中氮化工序,；另外，用于制冷,、化肥,、石油、采礦,、橡膠等工業(yè),。

9、氯化氫-HCI,，>99.995%,，用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延,、熱氧化,、擴散等工序；另外,，用于橡膠氯氫化反應中的化學中間體,、生產(chǎn)乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。

10,、一氧化氮-NO,，>99%，用作標準氣,、校正氣,；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積主序；制備監(jiān)控大氣污染的標準混合氣,。

11,、二氧化碳-CO2，>99.99%,，用作標準氣,、在線儀表標推氣、校正氣,；于半導體器件制備工藝中氧化,、載流工序警另外，還用于特種混合氣,、發(fā)電,、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑,、滅火劑,、食品冷凍、金屬冷處理,、飲料充氣,、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等,。

12,、氧化亞氮-N2O，(即笑氣),，>99.999%,，用作標準氣、醫(yī)療氣,；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積,、醫(yī)月麻醉劑、煙霧噴射劑,、真空和帶壓檢漏,；紅外光譜分析儀等也用。

13,、硫化氫-H2S,，>99.999%，用作標準氣,、校正氣,；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻,，化學工業(yè)中用于制備硫化物，如硫化鈉,，硫化有機物,；用作溶劑；實驗室定量分析用,。

14,、四氯化碳-CCl4，>99.99%,，用作標準氣,；用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相淀積等工序,；另外,，用作溶劑、有機物的氯化劑,、香料的浸出劑,、纖維的脫脂劑、滅火劑,、分析試劑,、制備氯仿和藥物等。

15,、氰化氫-HCN,，>99.9，用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序,；制備氫氰酸溶液,，金屬氰化物、氰氯化物,；也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體,。

16、碳酰氟-COF2,，>99.99%,，用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,，用作氟化劑,。

17、碳酰硫-COS,，>99.99%,，用作校正氣；用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；也用于有些羧基,、硫代酸,、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。

18,、碘化氫-HI,，>99.95%，用于半導體器件制備工藝中離子注入工序,；還用于氫碘酸溶液制備。

19,、嗅化氫-HBr,，>99.9%，用于半導體制備工藝中等離子干刻工序,；用作還原劑,，制備有機及無機澳化合物。

20,、硅烷-SiH4,，>99.999%，電阻率>100Ω/cm2,，用于半導體器件制備工藝中外延,、化學氣相淀積等工序。

21,、乙硅烷-Si2H6,，>99.9%，用于半導體制備工藝中化學氣相淀積,。

22,、磷烷-PH3，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中外延,、擴散、化學氣相淀積,、離子注入等工序,；磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體，可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物,。

23,、砷烷-AsH3，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中外延,、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序,。

24,、硼烷-B2H6，>99.995%,，用于半導體器件制備工藝中外延,、擴散、氧化等工序,；用于有些化學工業(yè)合成過程:如氫硼化反應(即生成醇類),，有機功能的衰退，制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物,。

25,、鍺烷-GeH4，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中外延,、離子注入工序。

26,、銻烷-SbH3,，>99.999%，用于半導體器件制備工藝中外延,、離子注入工序,。

27、四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4,，>99.99%,，用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。

28,、乙烷-C2H6,，>99.99%，用作標準氣,、校正氣,、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序,；還用于冶金工業(yè)的熱處理,，化學工業(yè)中制備乙醇、氧化乙二醇,、氯乙烯,、高醇類、乙醛等,。

29,、丙烷-C3H8，>99.99%，用作標準氣,、校正氣,、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序,；另外,，用于燃料、冷凍劑,、制備乙烯與丙烯的原料,。

30、硒化氫-H2Se,，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序,。

31、碲化氫-H2Te,，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序,。

32,、二氯二氫硅-SiH2Cl2，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中外延,、化學氣相淀積工序。

33,、三氯氫硅-SiHCl3,，>99.999%，用于半導體器件制備工藝中外延,、化學氣相淀積工序,。

34、二甲基碲-(CH3)2Te,，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序,。

35,、二乙基碲-(C2H5)2Te，>99.999%,，用途同(34),。

36、二甲基鋅(CH5)2Zn，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序,。

37、二乙基鋅(C2H5)2Zn,，>99.999%,，用途同(36)。

38,、三氯化磷-PCl3,，>99.99%，用于半導體器件制備工藝中擴散,，鍺的外延生長和離子注入工藝,；PCl3是有機物的良好氯化劑；也用于含磷有機物的合成,。

39,、三氯化砷-AsCl3，>99.99%,，用于半導體器件制備工藝中的外延和離子注入,。

40、三氯化硼-BCl3,，>99.99%,，用于等離子干刻、擴散,；作硼載氣及一些有機反應的催化劑,；精煉鎂、鋅,、鋁,、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳,、氧化合物,。

41、四氯化硅-SiCl4,，>99.999%,，用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序,。

42,、四氯化錫-SnCl4，>99.99%,，用于外延,、離子注入,。

43、四氯化鍺-GeCl4,，>99.999%,，用于離子注入。

44,、四氯化欽-TiCl4,，>99.99%，用于等離子干刻,。

45,、五氯化磷-PCl5，>99.99%,，用于外延,、離子注入。

46,、五氯化銻-Sb=Cl5,，>99.99%，用于外延,、離子注入,。

47、六氯化鑰-MoCl6,，>99.9%，用于化學氣相淀積,。

48,、三嗅化硼-BBr3，>99.99%,，用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維,。

49、三嗅化磷-PBr3,，>99.99%,，用于外延、離子注入,。

50,、磷酞氯-POCI3，>99.999%,，用于擴散工序,。

51、三氟化硼-BF3,，>99.99%,，用于離子注入,；另外，可作載氣,、某些有機反應的催化劑,；精煉鎂、鋅,、鋁,、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧,、碳化物,。

52、三氟化磷-PF3,，>99%,，用于外延、離子注入工序,；另外用作氟化劑,。

53、三氟化砷-AsF3,，>99.9%,，用于外延、離子注入工序,；另外用作氟化劑,。

54、二氟化氨-XeF2,，>99.9%,，用于外延、離子注入工序,；用于固定模具氨的考察及原子反應堆排放廢氣中氮的測定,。

55、三氟氯甲烷-CClF3,，(R-13),，>99.995%，用于等離子干刻工序,；冷凍劑,、空調(diào)均可用。

56,、三氟甲烷-CHF3,，(R-23)，>99.999%,，用于等離子干刻工序,；低溫冷凍劑,。

57、三氟化氮-NF3>99.99%,，用于等離子干刻工序,；火箭推進劑、氟化劑,。

58,、三氟嗅甲烷-CBrF3，(R13B1),，>99.99%,，用于等離子干刻工序；還用于空調(diào),、低溫冷凍及滅火劑,。

59、三氟化硼-11-B11F3,，>99.99%,，用于離子注入工序(天然硼的同位素，含11B81%,，10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3),；還用于制備光導纖維,。

60、四氟化碳-CF4,，(R-14),，>99.99%，用于等離子干刻工序,；在很低溫度下作為低溫流體用；也用于中性及惰性氣體,。

61,、四氟化硫-SF4，>98%,，用于等離子干刻工序,；氟化劑、表面處理劑,。

62、四氟化硅-SiF4,，>99.99%,，用于化學氣相淀積工序,；制備氟硅酸及其鹽類,。

63、四氟化鍺-GeF4,，>99.999%,，用于離子注入工序。

64,、五氟化磷-PF5,，>99.9%，用于離子注入,、等離子干刻工序,；另外,，用作氟化劑,，聚合、烴化及脫烴化反應,、烴類裂化反應時作催化劑,。

65、五氟氯乙烷-C2ClF6,，(R-115),，>99.99%，用于等離子干刻工序,；另外,，作冷凍劑、煙霧噴氣劑,。

66,、五氟化砷-AsF5，>99%,，用于外延,、離子注入工序，氟化劑,。

67,、六氟乙烷-C2F6，(R-116),，>99.99%,，用于等離子干刻工序,；用作冷卻、冷凍劑和空調(diào),；單體生產(chǎn)的原料,；化學反應中的添氟劑、電器設備的絕緣劑,。

68,、六氟化硫-SF6，>99.99%,，用作標準氣,；用于化學氣相淀積工序；由于在高電壓下具有很高的電阻,，用作電器設備的絕緣劑,；檢漏氣體，實驗室中作色譜儀的載氣,。

69,、六氟化鎢-WF6，>99.99%,，用于化學氣相淀積工序,；強烈的氟化劑；也用作鎢載體,。

70,、六氟化氧-(CF3)2O2，>99.99%,，用于等離子干刻工序,。

71、六氟乙酰-(CF3)2CO,，>99.99%,，用途同(70)。

72,、六氟乙酞氧-(CF3CO)2O,，>99.99%，用途同(70),。

73、六氟化錸-ReF6,，>97%,，用于離子注入工序；氟化劑,。

74,、八氟丙烷-C3F8,，(R-218)，>99.9%,，用于等離子干刻工序,；與氟利昂相混合作冷凍劑；高壓電的絕緣劑,。

75,、八氟環(huán)丁烷-C4F8，(RC318),，>99.99%,，用于等離子干刻工序；用作冷卻劑,、冷凍劑,；作電器和電子設備的氣體絕緣。

76,、十二氟戊烷-C5F12,，>99.9%，用于等離子干刻工序,；也可與CF4相混用,。

77、三甲基鋁-(CH3)3Al,，>99.999%,，用于化學氣相淀積工序；金屬的有機合成,。

78,、三甲基鎵-(CH3)3Ga>99.999%，用途同(77),。

79,、三甲基銻-(CH3)3Sb，>99.999%,，用途同(77),。

80、三甲基錮-(CH3)3In,，>99.999%,，用途同(77)。

81,、三乙基鋁-(C2H5)3Al,，>99.999%，用途同(77)。

82,、三乙基鎵-(C2H5)3Ga,，>99.999%，用途同(77),。

83,、四乙基鉛-(C2H5)4Pb，>99.999%,，用于化學氣相淀積工序,。

84、丙烯腈-C3H3N,，>99.9%,，用于等離子干刻工序。

85,、1,，1，2-三氯乙烯-C2HCl3,，>99.99%,，用作標準氣、校正氣,、醫(yī)療氣,；用于半導體器件制備工藝中熱氧化工序；另外,，用于金屬的脫脂劑和脂肪,、油、石蠟等萃取劑,，衣服干洗,，冷凍劑，殺菌劑,。

86,、甲烷-CH4，99.999%,，用作標準氣,、校正氣、在線儀表標準氣,；作燃料,、宇宙飛船中氣體電池。

87,、甲烷硫醇-CH3SH,，>99.5%,，用作標準氣、校正氣,；用于有機合成；作為噴氣燃料添加劑,，殺真菌劑和蛋氨酸的中間體,。

88、一甲胺-CH3NH2,，>99%,，用于硫化促進劑、藥物,、染料和炸藥等,，并作溶劑、有機合成,、醋酸人造纖維,。

89、甲醇-CH3OH,，>99.9%,，用作標準氣，與空氣混合后作校正氣,；用于制備甲醛和農(nóng)藥鄉(xiāng)用于有機物質(zhì)的萃取劑和酒精的變性劑,。

90、二甲胺-(CH3)2NH,，>99%,，用作抗氧化劑；在溶液中作浮洗劑,、汽油穩(wěn)定劑、橡膠加速劑等,。

91,、二甲醚-(CH3)2O，>99.9%,，在化學工業(yè)中用作配制合成橡膠和甲硫醚,；用作甲基劑、萃取劑,、溶劑,；也用作制冷劑。

92,、乙炔-C2H2,，>99.9%，用作標準氣,、校正氣,；化學工業(yè)中的中間體,，如制備乙烯、乙醛,、醋酸乙烯,、氯乙烯,、乙烯醚等；用于原子吸收光譜,。

93,、乙烯-C2H4，>99.99%,，用作在線儀表標準氣,、標準氣、校正氣,；是化學

工業(yè)合成中的重要原料,，生產(chǎn)塑料的中間體，生產(chǎn)乙醇,、醋酸、氧化乙烯,、氯乙烯,、乙苯等的原料；也用于焊接和切割,、冷凍劑,、某些水果、蔬菜生長的加速劑,。

94,、氧化乙烯-C2H4O，99.9%,，用作標準氣,、校正氣、醫(yī)療氣,；與CO2,、R11,、R21相混合作消毒劑，文物保管,，皮革消毒,，清洗衣料均可采用；化學工業(yè)中用作中間體,，生產(chǎn)液體或固體聚乙二醇,、乙醇胺類等。

95,、溴代乙烯-C2H3Br，>99.9%,，用作有機合成的中間體,，用聚合法與共聚法來制備塑料。

96,、一乙胺-CH3CH2NH2,，>99%，水溶液中含有70%乙胺,，作為下列化學工業(yè)制備中的中間體:著色劑,，電鍍池、硫化增速劑等,；還用于制藥,、表面活性劑、萃取劑,。

97,、四氟乙烯-C2F4，>99%,，在生產(chǎn)塑料時作為一種重要的單體,，如泰氟隆等。

98,、乙醛-CH5CHO,，>99.9%，用作校正氣,；用于制備酷酸,、醋醉、醋酸乙酷,、正丁醇,、合成樹脂等。

99,、二甲基二硫醚-CH3S2CH3,，＞99.9%,，用作校正氣、溶劑,。

100,、二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%，用作校正氣,、溶劑,。

101、乙醇-C2H5OH,，>99.9%,，用作校正氣；用于溶劑,，制備染料,、涂料、藥物,、合成橡膠等,。

102、乙酰氯-CH3COCl,，99.99%,，用于乙酰化劑和化學試制,。

103,、1-羥亞乙基-1，1雙磷酸-C2H8P2O7,，>99.99%,，簡稱HEDPA，用于特殊的洗滌,、紡織漂白分離劑,、磨料和環(huán)境衛(wèi)生；在石油和氣田中用作防腐劑,。

104,、環(huán)丙烷-(CH2)3，>99%,，用于有機合成,；醫(yī)藥上作麻醉劑。

105,、甲基乙炔-C3H4>99%,，用作在線儀表標準氣、校正氣,；用于制備丙酮,；化學工業(yè)中作合成中間體,。

106、六氟丙酮-CF3COCF3,，>99.9%,，是強烈的反應氣，常與脂肪酮發(fā)生化學反應,，用這些酮類可制備不同的產(chǎn)品,，如穩(wěn)定的液體、溶劑,、水泥,、單體、共聚物,，以及農(nóng)業(yè)及藥物產(chǎn)品,。

107、三甲胺-(CH3)3N,，>99%，用作標準氣,，溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療處理,；在化學工業(yè)中作中間體，用來生產(chǎn)殺蟲劑,、潤濕劑,、發(fā)泡劑、合成樹脂等表面活性劑,。

108,、丙烯-C3H8，>99.9%,，用作標準氣,、校正氣、在線儀表標準氣,；在化學工業(yè)上用作制備異丙醇,、氧化丙烯、氧基醇類,、四氯化碳,、聚丙烯等。

109,、丙二烯-C3H4,，99%，在線儀表標準氣,；用于有機合成中間體,。

110,、氧化丙烯-C3H6O，>99.9%,，(又稱1,，2-環(huán)氧丙烷)，用于制備丙二醇和泡沫塑料,；也是醋酸纖維素,、硝酸纖維素和樹脂等的溶劑。

111,、甲基乙烯醚-CH3COCH3,，>99.5%，用作標準氣,；用于有機合成中間體,；塑料和合成樹脂制備時的原料及共聚物的生產(chǎn)。

112,、六氟丙烯-C3F6,，>99.9%，用于有機合成中間體,。

113,、丙酰氯-CH3CH2COCl，＞99.9%,，用于制備鹽酸,、丙酸；用作氧化劑,。

114,、正丁烷-C4H10，>99.99%,，用作標準氣,、校正氣；用作燃料,，商業(yè)上主要和異丁烷混合用,；化學工業(yè)中作制備中間體:乙烯、丙烯,、丁烯等,；作煙霧噴射劑；充入溫度計球作標準蒸汽壓型的壓力表,；與氦混合用作電離粒子計算器,。

115、異丁烷-iC4H10,，>99.99%,，用作標準氣,、校正氣；用途同(114),。

116,、乙基乙炔C4H5，>99%,，用作標準氣,、校正氣；化學工業(yè)中作為合成中間體,。

117,、環(huán)丁烷-(CH2)4，>99%,，作為液體溶劑,，或與其它溶劑混合使用；也可作為合成中間體,。

118,、丁烯-1-C4H8，>99.9%,，用作標準氣,、校正氣；用于有機化合物的制備中間體,；催化脫氫生成丁二烯。

119,、順丁烯-2C4H8,，>99%，用作標準氣,、校正氣,；用于有機化合物的制備中間體；催化脫氫生成丁二烯,、酸式硫酸鹽,，加水生成丁醇-2等；也可用作溶劑,。

120,、反丁烯-2-C4H8，>99%,，用作標準氣,、校正氣；用途同(119),。

121,、順與反丁烯-2-C4H8,，>99%，用作校正氣,；用途同(119),。塑料和樹脂，生產(chǎn)尼龍-6,；也是火箭燃料組成部分,。

122、1,，3丁二烯-C4H6,，>99%，用作校正氣,；用聚合法和共聚法來生產(chǎn)合成橡膠,、塑料和樹脂，生產(chǎn)尼龍-66,；也是火箭燃料組成部分,。

123、異丁烯-iC4H8,，>99.9%,，用作校正氣，用于有機中間體,，使氧化產(chǎn)生丙酮和甲酸,，在液相或氣相中催化使生成雙異丁烯等；也可用來制備合成橡膠,，有很高的耐酸堿度,；是良好的絕緣體。

124,、八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),，>99.5%，用于有機合成中間體,。

125,、二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5，99.99%,，一接觸到氧化劑,，反應劇烈；與二氧化碳混合,，遇到汞會產(chǎn)生爆炸反應,。

126、正戊烷-C5H12，>99%,，用作標準氣,、校正氣；作溶劑及合成中間體,。

127,、異戊烷-iC5H12，>99%,，用作校正氣,；用途同(126)。

128,、2,，2二甲基丙烷-C5H12，(又叫新戊烷),，>99.9%,，是生產(chǎn)異丁烯的原料，用于生產(chǎn)合成丁烯橡膠,。

129,、3-甲基-1-丁烯-C5H10，(甲基丁烯),，>99.95%,，用于有機合成中間體；也用于增加燃料的辛烷值,；用于塑料的聚合,。

130、特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,，>99.99%,，可制備氯化氫與特戊酸；可與強氧化劑反應,。

131,、苯-C5H6,，>99.999%,，用作標準氣、校正氣,、零點氣,；是染料、塑料,、合成像膠,、合成樹脂、合成纖維、合成藥物和農(nóng)藥的原料,。

132,、己烷-C6H14，>99.9%,，用作標準氣,、校正氣；作溶劑,。

133,、三乙基鋁三氯-C6H15Al2Cl3，>99.99%,，用于合成中間體,；烯類聚合催化劑，芳烴衍生物聚合的催化劑,。

134,、環(huán)己烷-C6H12，>99.99%,，用作標準氣,；用于制備環(huán)己醇和環(huán)己酮；用于合成耐6,；在涂料工業(yè)中廣泛用作溶劑,，也是樹脂、脂肪,、石蠟,、油類的極好溶劑。

135,、己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl,，>99.99%，用于制備氯化氫與肥酸,。

136,、甲苯-C7H8，,，>99.99%,，用作零點氣、校正氣,；用于制造糖精,、染料、藥物和炸藥等,；也用作溶劑,。

137,、苯乙烯-C8H8，,，>99.9%,，用作校正氣；用于制樹脂,、塑料,、合成橡膠等。

138,、2-乙基己酰氯-C5H10,，C2H5，COCl,，>99.9%,，可用于制備氯化氫和2-乙基己酸。

139,、辛酰氯-CH3,，(CH2，)6COCl,，>99.9%,，是氧化劑；可用于制備鹽酸與辛酸,。

140,、氨基咪哇酮-C9H15，N3O3,，>99.9%,，用作還原劑。

141,、壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl,，>99.9%，用于制備鹽酸與壬酸,。

142,、新癸酰氯-C10H19OCl，>99.9%,，用于制備鹽酸與新癸酸,。

143、三異丁基鋁-C12H27,，Al,，(簡稱TIBA),，>99.99%,，用于合成中間體，是聚合烯類和二烯類的催化劑。

144,、十二酰氯-CH3(CH2)10COCl,，>99.9%，用于制備鹽酸與月桂酸,。

145,、十八酰氯-CH3(CH2)18COCl，＞99.9%,，用于制備鹽酸與硬醋酸,。

146、酚酞黃-C20H14O4,，>99.9%,，醫(yī)療用作瀉藥。

147,、空氣(或合成空氣)-21%O2,，79%N2，用作零點氣,，超零點級空氣中含CnHm<0.lppm,，零點級空氣中含CnHm<0.2ppm。零點級空氣經(jīng)常用于色譜儀火焰離子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑,。

148,、仲氫-H2，>99.99%,，用作火箭推進劑,；核工業(yè)中用于氣泡室；冷電子工程低溫液態(tài)供固體電路研究用,。

149,、純水-H2O，>99.9999%,，用作標準氣,、校正氣。

150,、氖-Ne,，>99.999%，用作標準氣,、特種混合氣,；用于充發(fā)光燈泡、電子管,、訊號燈,、等離子體研究,、熒光燈中啟動器、火花室,、蓋革一彌勒管,、激光器；用作低溫冷卻劑,。

151,、氪氣-Kr，>99.995%,，用作標準氣,、特種混合氣、燈泡與電子工業(yè)用氣,。

152,、氙氣-Xe，>99.995%,，用作標準氣,、特種混合氣，用于電光源,、電子工業(yè),、充填閘流管和半波整流管。

153,、溴氣-Br2,，>99.99%，用于化學工業(yè)中制備澳化氫和其它嗅化合物,、氧化劑,、實驗試劑；也用于染料和攝影工業(yè),。

154,、臭氧-O3，>99.99%,，用作醫(yī)療氣,，用于外科設備的消毒，人類用水和游泳池的凈化,，工業(yè)廢品的處理,，污物消毒；紡織纖維,、紙漿和糖類的漂白,，樟腦的制備，礦物油及其衍生物的凈化,。

155,、氰氣-C2N2,，>99%，用作焊接與切割耐熱金屬,，與氧化劑、臭氧和氟氣混合后作火箭與導彈推進劑,；醫(yī)學上作薰蒸劑,；用于許多有機合成中的媒介物。

156,、氯化氰-ClCN,，>99%，用于有機合成,；與薰蒸氣體相混合可作熱源,。

157、氟化氫-HF,，>99.9%,，用于制備氟化物、氟氣,；在異構化,、冷凝過程、聚合,、干燥,、水解反應等作為催化劑；在有些有機或無機反應中作為氟化劑,。

158,、亞硝酰氯-NOCl，>99%,，用于有機化合物的重氮化,、硝化、氯化作用,；也用于石油熟化劑,。

159、過氟二氯氧ClO3F,，>99%,，用于與氟鹵素類相混合，成為火箭發(fā)動機的液態(tài)氧化劑,；也可供街族化合物作選擇性的氟化劑,。

160、碳酰氯-COCl2,，(光氣),，>99.9%,，用于染料、藥物,、除蕎劑,、殺蟲劑、合成泡沫,、樹脂和聚合等有機合成,；還用作氯化劑。

161,、硫酰氟-SOF2,，>99.5%，用于制備氟碳化合物,；是優(yōu)良的殺蟲薰蒸劑,，用于集裝箱、農(nóng)作物種子,、林木種子的薰蒸,，倉庫、古建筑,、園林果木蛀干性害蟲及白蟻的防治,，以及文物檔案的保護；也用作催化劑,。

162,、羰基鎳-Ni(CO)4，>99.95%,，用于制備高純鎳,；制成金屬鏡及很薄的鎳箔；是碳化反應中有效的催化劑,。

163,、羰基鐵-Fe(CO)5在有的文獻中寫成Fe(CO)4〕，>99.95%,，主要作鐵的載體,，在汽油中作抗爆劑。

164,、磷酸-H3PO4,，>99.99%，用作校正氣,；用于制磷酸鹽,、甘油磷酸醋、磷酸按肥料；還作化學試劑,。

165,、過氙酸鈉-Na4XeO6·8H2O，>99.99%,，強氧化劑,，可測定水中汞含量。

166,、一氧化碳-CO,，>99.995%，用作標準氣,、校正氣,、在線儀表標準氣,；與氫和其它氣體混合作燃料氣,；用于從含有鐵、鉆和銅的礦砂中回收鎳,；也可用于制備酸類,、醚類和醇類化學品。

167,、二氧化硫-SO2,，>99.99%，用作標準氣,、校正氣,、在線儀表標準氣；用于啤酒,、葡萄酒,、肉類的防腐；硫化物和氧硫化物的制備,；油類和食品的漂白劑,；硫化紙漿的制備；制冰工業(yè)的冷卻劑,。

168、二氧化氮-NO2(N2O4),，>99.9%,，用作標準氣；用于一些氧化反應的催化劑,；在丙烯酸鹽類精餾時用于防止聚合,，用作有機物的硝化劑、氧化劑,、火箭燃料,、面粉漂白劑,。

169、二氟化氧-OF2,，>99.5%,，用作氧化劑，是高能火箭推進劑系統(tǒng)中的組成部分,。

170,、三氧化二氮-N2O3，>99.5%,，與堿化合生成純堿亞硝酸鹽類,；在特殊燃料系統(tǒng)中作氧化劑，也用于萜烯類的鑒定,。

171,、三氧化氙-XeO3，>99.99%,，用于通過氧化還原代替測定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0),。

172、三氧化硫-SO3,，>99.99%,，用于化學工業(yè)中制備硫酸與發(fā)煙硫酸；是硫化劑,；也用于染料工業(yè),。

173、三氟化氯-ClF3,，>99.5%,，用作火箭導彈推進劑，當接觸到燃料時(自發(fā)能力)能使其立刻開始反應,；也用作油井管道切割劑,，管道深達2公里也可用它來切斷管子。

174,、三氟化溴-BrF5,，>99.5%，用作氟化劑和電解溶劑,；也用于火箭導彈的推進劑,。

175、四氟化氮-N2F4,，>99.9%,，強氧化劑，可制備三氟化氮。

176,、四氟化氙-XeF4,，>99.9%，可用于制備過氙化合物和三氧化氙溶液,。

177,、五氟化溴-BrF5，>99%,，用作氟化劑,；也用于火箭導彈的推進劑。

178,、五氟化氯-ClF5，>99%,，強烈的氧化劑,，腐蝕性比三氟化氯小,，可制備有機及無機氟化物；可作空間推進器的助燃劑,。

179,、五氟化碘-IF5,，>99%,，用作氟化劑和燃燒劑,。

180、六氟化鉬-MoF5>99.9%,，強烈的氟化劑，也用于鑰的載體,。

181,、六氟化碲-TeF5,，>99.9%，用作氟化劑和啼的載體,。

182,、氟三氯甲烷(R11)-CCl3F,，>99.95%，用于冷凍工業(yè),、空調(diào)、溶劑、滑冰場,、鹽水和海水裝置,、煙霧噴射劑,、發(fā)泡劑,、檢漏,、紡織品的干洗。

183,、二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2,，>99.9%,，用作標準氣、校正氣,；用于低溫空調(diào),、食品貯藏,、冷凍工業(yè),、煙霧噴射劑,、檢漏、膨脹劑、氣相絕緣材料。

184、二氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2,，>99.9%,，用于石油,、丙酮,、二硫化碳生產(chǎn)中及電器著火時的滅火劑,。

185,、二氟二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2，>99.9%,，用于快速聚合；用作滅火劑。

186,、二氯氟甲烷(R21)-CHCl2F,，>99.9%，用于氣候很熱時的空調(diào),、冷凍劑,、溶劑,、煙霧噴射劑、化學媒介物,。

187,、二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2,，>99.9%，用于冷卻和空調(diào),；在低溫噴霧特殊情況下作煙霧噴射劑,；氟化聚合物的生產(chǎn)和檢漏。

188,、二氟甲烷(R32)-CH2F2,，>99%,，用作冷凍劑，與五氟氯乙烷(R115)混合后形成共沸混合物的冷凍劑,。

189,、氯甲烷(R40)–CH3Cl，>99.5%,，用作冷凍劑,，局部麻醉處理；氣溶膠工業(yè)中當作噴射氣體,；有機合成中用作甲基劑,；作溶劑或萃取劑。

190,、溴甲烷(R40B1)-CH3Br,，>99.9%，用于有機合成(著色劑)中甲基劑,；低溫溶劑,、冷凍劑；土壤與種子的薰蒸劑,。

191,、氟甲烷(R41)-CH3F，>99.9%,，以混合物用作非燃燒性的煙霧噴射劑,。

192、1，1,，2,，-三氯三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3，(俗稱TTE),，>99.9%,，用作冷凍劑,、傳熱介質(zhì),；制備三氟氯乙烯(R1113)的中間媒介物。

193,、1,，2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4，>99%,，用作冷凍,、冷卻、空調(diào),，單獨與二氟二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧噴射劑,。

194、1,，2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4,，>99.5%，用作溶劑,、滅火劑,，與其它氟碳化合物相混合作噴射劑。

195,、五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5,，>99.9%，用作冷凍劑,、煙霧噴射劑,。

196、二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2,，>99%,，用作冷凍劑、溶劑,、與非燃燒性的鹵碳類化合物相混合作噴射劑,。

197、三氟乙烷(R143)-C2H3F3,，>99.9%,，用作冷凍劑。

198、1,，1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2,，>99%，用作冷凍劑,、煙霧噴射劑,、有機合成中間媒介物。

199,、氯乙烷(R160)-C2H3Cl,，>99.9%，用于局部麻醉的醫(yī)療處理,，外科和皮膚科的噴霧醫(yī)療,；在染料工業(yè)中當作乙基劑、冷凍劑,、溶劑,、殺蟲劑的生產(chǎn)。

200,、氟乙烷(R161)-C2H5F,，>99.9%，用于合成中間媒介物,。

201,、R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5，>99.9%,，用作冷凍劑,、空調(diào)。

202,、R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2,，>99.9%,，用作冷凍劑,、空調(diào)、噴霧,。

203,、R-23與R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3，>99.9%,，用作冷凍劑,、空調(diào)。

204,、全氟丁烷(R601)-C4F10,，>99%,，用作絕緣氣體。

205,、三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3,，>99%,，用于制備潤滑脂,、油類,、

蠟類,、塑料的聚合劑,，聚三氟氯乙烯的單體,。

206、三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3,，>99%,，用于聚合反應和化學中間體。

207,、二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2,，＞99.9%，用于化學合成中間體,。

208,、1，1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2,，>99%,，是一個很重要的單體，用于生產(chǎn)塑料及彈性體,。

209、氯乙烯(R1140)-C2H3Cl,，>99.9%,，用作標準氣；用作聚合劑,、有機合成的中間體,。

210、氟乙烯(R1140)-C2H3F,，>99.9%,，用作聚合劑,、有機合成的中間體。

211,、氦-3–He3,，>99.99%，充計數(shù)管,；作稀釋制冷機超低溫冷源,，可達4.5×10-3K。

212,、氦-4-He4,，>99.99%，在空間應用的低溫火箭燃料,、核反應堆中重水及所有常溫與低溫的液體均可用氦-4作壓送氣,。

213、氘-D2,，>99.95%,，在核工業(yè)研究中應用在氖核加速器中作為拋射體；當放射丫能射線時作為中子源,；在研究化學反應時,，包括氫化合物，可作為軌跡用,；用于生產(chǎn)重水(D2O),。

214、氚-T2,，>99.95%,，用作標準氣，控制每升為1000微居里,，有很廣泛的活潑性,，與氖氬混合作為載氣，可用于檢測微量氮氣及其它稀有氣體,。

215,、氧-18-O218，>99%,，可制備H218O,、D218O、S18O2,。

216,、氮-15-N215，>99%,，可制備15NH3,、16NO,、15NO等。

217,、氬-36–Ar36,，>99.99%，計量值用,。

218,、氬-40-Ar40，>99.99%,，計量值用,。

219、氖-20Ne20,，>99.99%,，計量值用。

220,、氖-22Ne22,，>99.99%，計量值用,。

221,、氪-85-Kr85，>99.99%,，標準氣，控制每升為10微居里,，充燈泡用,。

222、氪-86-Kr86,，>99.9%用作標準氣,。

223、氙-133-Xe133,，>99.9%,，充燈泡用。

224,、碳-13-C13,，>99%，可制備13CO2,、13C6H8,、13CO、13COS,、13C2H4等,。

225,、碳-14-C14，>99%,，用作標準氣,，控制每升為100微居里。

226,、碳-18-C18,，>99%>99%，可制備C18O2,、C18O,。

227、硫-35-S35,，>99%,，用作標準氣，控制每升為100微居里,。

228,、三氯甲烷-CHCl3，>99.9%,，用于等離子干刻,。

229、三氯乙烷-C2HCl3,，>99.9%,，用于熱氧化。

230,、二甲基二氯硅烷-(CH3)2SiHCl2,，>96%，用于外延,、化學氣相淀積,。

231、二甲基氯硅烷-(CH3)2SiHCl,，>96%,，用于外延、化學氣相淀積,。

232,、三甲基氯硅烷-(CH3)3SiCl，>95%,，用于外延,、化學氣相淀積。

233,、二氟四氯乙烷-C2Cl4F2,，>99.9%,，用于等離子干刻。

234,、六氟化硅-SiF2,，>99.9%，用于等離子干刻,。

235,、八氟甲烷-CF8，>99.9%,，用于等離子干刻,。

236、異十氟丁烷-i-C4F10,，>99.9%,，用于等離子干刻。

237,、十二氟乙烷-C2F12,，>99.9%，用于等離子干刻,。

238,、乙烯基甲基醚-C3H3O，>99.5%,。

239,、乙烯基乙炔-CH2CHC2H，>50%,。

240,、二甲基鎘-(CH3)2Cd，純度＞99.999%,，電子氣，用于MOCVD,。

241,、二乙基鎘-(C2H5)2Cd，>99.999%,，電子氣,，用于MOCVDo

242、四甲基錫-(CH3)4Sn,，>99.999%,，電子氣，用于MOCVD,。

243,、四乙基錫-(C2H5)Sn,，>99.999%，電子氣,，_用于MOCVD,。

244、三甲基砷-(CH3)3As,，>99.999%,，電子氣，用于MOCVD,。

245,、三乙基砷-(C2H5)3As，>99.999%,，電子氣,，用于MOCVD。

246,、三乙基銻-(C2H5)3Sb,，>99.999%，電子氣,，用于MOCVD,。

247、二乙基銦-(C2H5)2ln,，>99.9999%,，電子氣,，用于MOCVD,。

248,、二甲基銦-(CH3)2In,，)99.9999%，電子氣,，用于MOCVD。

249,、二乙基鎂-(C2H5)2Mg,，>99.999%，電子氣,，用于MOCVD,。

250、二甲基汞-(CH3)2Hg,，>99.999%,，電子氣，用于MOCVD。

251,、二乙基汞-(C2H5)2Hg,，>99.999%,，電子氣,，用于MOCVD,。

252,、三甲基磷-(CH3)3P,，>99.999%,，電子氣，用于MOCVD,。

253,、三乙基磷-(C2H5)3P,，>99.999%,，電子氣,，用于MOCVD,。

254,、三異丁基鋁-(i-C4H9)3AI，＞99.9999%,，電子氣,，用于MOCVD,。

255、丙硅烷-Si3H8,，>99%,，電子氣，用于CVD,。

256,、三氯化鋁-AlCl3，>99.999%,，電子氣,，用于外延。

257,、五氟化鉭-TaF5,，>99.9%，電子氣,，用于離子注入,。

258、五氟化鉈-TlF5,，>99.9%,，電子氣，用于離子注入,。

259,、氯乙烯-C2H3Cl，99.9%,，校正氣,，用作冷凍劑。

260,、氟乙烯-C2H3F,，>99.9%，校正氣,，用于制聚乙烯樹脂和其它單體的共聚物,。