一,、光刻機是干什么用的

光刻機是用來制造芯片的,。光刻機又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機,，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,，所以光刻機又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備,。

光刻機決定了芯片的精密尺寸，設(shè)計師設(shè)計好芯片線路,，再通過光刻機將線路刻在芯片上,，其尺度通常在微米級以上。

光刻機是芯片生產(chǎn)中最昂貴也是技術(shù)難度最大的設(shè)備,，因為其決定了一塊芯片的整體框架與功能,。

其實生產(chǎn)高精度芯片并不難，只是生產(chǎn)速度太慢,，而光刻機能快速生產(chǎn)高精度的芯片,，所以很重要。

二,、光刻機的工作原理

利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,，從而使薄片具有電子線路圖的作用,。這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上,，而光刻刻的不是照片,，而是電路圖和其他電子元件。

簡單點來說,，光刻機就是放大的單反,，光刻機就是將光罩上的設(shè)計好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上，形成圖形,。

三,、光刻機的性能指標(biāo)

光刻機的主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍，分辨率,、對準(zhǔn)精度,、曝光方式、光源波長,、光強均勻性,、生產(chǎn)效率等。

分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細(xì)線條精度的一種描述方式,。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,，所以與光源、光刻系統(tǒng),、光刻膠和工藝等各方面的限制,。

對準(zhǔn)精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式,、投影式和直寫式,。

曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,，光源有汞燈,，準(zhǔn)分子激光器等。