一、光刻膠和光刻機有什么區(qū)別

光刻膠和光刻機的區(qū)別在于作用不同,。光刻膠是一種有機化合物,，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑,，它被紫外光曝光后,，在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面,，而后被干燥成膠膜,。光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,，更是大大促進了光刻膠的研究開發(fā)和應用,。而光刻機是制造芯片的核心裝備，采用類似照片沖印的技術,，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上,。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料,，光刻機利用特殊光線將集成電路映射到硅片表面,，并要避免在硅片表面留下痕跡,，需要在硅片表面涂上一層特殊的物質(zhì)：光刻膠。

光刻機和光刻膠的關系就是：光刻機在晶圓上用光源畫電路圖的時候,，不直接畫圖,，需要在晶圓上涂抹一層液態(tài)的光刻膠，光刻膠干燥后形成膠膜,，光刻機才開始畫圖作業(yè),。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的,。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能,、抗蝕性,、表面的張力等。目前 光刻膠在芯片,、面板,、模擬半導體、發(fā)光二極管及光子器件上都得到了廣泛應用,。