一,、表面清潔

去除有機污染物：等離子體中的活性粒子（如氧自由基）能與材料表面的有機物（如油脂、蠟,、光刻膠等）發(fā)生化學反應,，將其分解為揮發(fā)性氣體（如CO?、H?O）,，從而實現(xiàn)高效去污,。

去除無機污染物：像灰塵、金屬氧化物等無機污染物也能被等離子清洗機通過離子轟擊去除。

二,、表面活化與改性

入活性基團：等離子體處理可以在材料表面引入羥基（-OH）,、羧基（-COOH）、氨基（-NH?）等活性基團,，提高材料表面的親水性,、粘接性或化學反應活性。

改善表面粗糙度：等離子體刻蝕可以微調(diào)材料表面的粗糙度,，增強與涂層或膠水的結(jié)合力,。

三、表面刻蝕與表面涂層

選擇性刻蝕：通過控制等離子體的成分和能量,，可以對材料表面進行選擇性刻蝕,，實現(xiàn)微米級甚至納米級的圖案化加工。

等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）：利用等離子體促進氣體分子的分解和反應,，在材料表面沉積薄膜,，如氮化硅（Si?N?）、氧化硅（SiO?）等,。

等離子體聚合：通過等離子體引發(fā)單體聚合,，在材料表面形成均勻的聚合物涂層，用于防腐,、防污或裝飾,。