一,、光刻機和芯片有什么關(guān)系

光刻機又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機,，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,，所以光刻機又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備,，總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光刻機是光刻技術(shù)的載體,，而光刻技術(shù)是芯片技術(shù)的重要部分,，光刻機的原理就是用光把圖案投射到硅片上。如果想要自主生產(chǎn)芯片,，光刻機是必要的,，就像工業(yè)中的機床一樣。

光刻機與芯片存在著密不可分的關(guān)系,。芯片與光刻機的關(guān)系,，就好比是魚和水。沒了光刻機,，再高端的芯片技術(shù)也只能停留在理想層面,。目前,，世界最高端的光刻機來自荷蘭，相信不久之后中國也能擁有獨立自主的光刻機技術(shù),。

二,、光刻機和芯片哪個更難

都很難的。因為芯片從設(shè)計到生產(chǎn)制造都是一個復(fù)雜工藝,，目前國內(nèi),，芯片設(shè)計軟件和生產(chǎn)核心光刻機都是國外的。不過光刻機難度最大,，因為再好的設(shè)計也需要做出來才能算成功,，而且還要保持良品率。

以我們掌握程度為難易判斷標(biāo)準(zhǔn),，我們掌握了就不算難,，沒掌握的就算難。

芯片設(shè)計,，手機通信我們有華為,，中興，展銳等,。通用桌面服務(wù)器有龍芯,，華為，申威等,。我們已經(jīng)具有完整的正向設(shè)計能力,，部分芯片設(shè)計已經(jīng)接近頂尖水平，差距一代不到,。

芯片制造,，中芯國際量產(chǎn)14納米，有望突破7納米,。華虹半導(dǎo)體也已經(jīng)初步量產(chǎn)14納米。跟最先進的臺積電和三星半導(dǎo)體比還有很大的差距,，差距一代多,。

光刻機，我們可以完全自主量產(chǎn)90納米光刻機?，F(xiàn)在最先進的極紫外光刻機只有荷蘭ASML能夠供貨,，我們跟ASML差了三代。根據(jù)公開信息,，我們28納米光刻機關(guān)鍵部件已經(jīng)全部完成攻關(guān),，今年底有望出整機樣機，兩年內(nèi)量產(chǎn),。28納米現(xiàn)在世界上有兩個國家量產(chǎn),，荷蘭和日本,。我們今年如果能夠踏入這個陣營，差距縮小到一代,。

綜合起來,，光刻機差距現(xiàn)在最大，是最難的,。但不管什么技術(shù),，只要持續(xù)不斷的投入，不被眼前的困難嚇倒,，培養(yǎng)人才梯隊,，追趕和超越是遲早的。