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光刻機和芯片有什么關系 光刻機和芯片哪個更難

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摘要:光刻機和芯片有什么關系?在芯片制造過程中是離不開光刻機的,光刻機是制造芯片的核心裝備,芯片的集成水平取決于光刻機的精度。光刻機和芯片哪個更難,?都很難的,不過光刻機難度最大,,目前我國只能自主量產(chǎn)90納米光刻機,,與荷蘭的差距還很大。

一,、光刻機和芯片有什么關系

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機,,在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關鍵的一步,,所以光刻機又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設備,,總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光刻機是光刻技術的載體,,而光刻技術是芯片技術的重要部分,,光刻機的原理就是用光把圖案投射到硅片上。如果想要自主生產(chǎn)芯片,,光刻機是必要的,,就像工業(yè)中的機床一樣。

光刻機與芯片存在著密不可分的關系,。芯片與光刻機的關系,,就好比是魚和水。沒了光刻機,,再高端的芯片技術也只能停留在理想層面,。目前,世界最高端的光刻機來自荷蘭,,相信不久之后中國也能擁有獨立自主的光刻機技術,。

二、光刻機和芯片哪個更難

都很難的。因為芯片從設計到生產(chǎn)制造都是一個復雜工藝,,目前國內(nèi),,芯片設計軟件和生產(chǎn)核心光刻機都是國外的。不過光刻機難度最大,,因為再好的設計也需要做出來才能算成功,,而且還要保持良品率。

以我們掌握程度為難易判斷標準,,我們掌握了就不算難,,沒掌握的就算難。

芯片設計,,手機通信我們有華為,,中興,展銳等,。通用桌面服務器有龍芯,,華為,申威等,。我們已經(jīng)具有完整的正向設計能力,,部分芯片設計已經(jīng)接近頂尖水平,差距一代不到,。

芯片制造,,中芯國際量產(chǎn)14納米,有望突破7納米,。華虹半導體也已經(jīng)初步量產(chǎn)14納米,。跟最先進的臺積電和三星半導體比還有很大的差距,差距一代多,。

光刻機,,我們可以完全自主量產(chǎn)90納米光刻機。現(xiàn)在最先進的極紫外光刻機只有荷蘭ASML能夠供貨,,我們跟ASML差了三代,。根據(jù)公開信息,我們28納米光刻機關鍵部件已經(jīng)全部完成攻關,,今年底有望出整機樣機,,兩年內(nèi)量產(chǎn)。28納米現(xiàn)在世界上有兩個國家量產(chǎn),,荷蘭和日本,。我們今年如果能夠踏入這個陣營,差距縮小到一代,。

綜合起來,,光刻機差距現(xiàn)在最大,,是最難的。但不管什么技術,,只要持續(xù)不斷的投入,,不被眼前的困難嚇倒,培養(yǎng)人才梯隊,,追趕和超越是遲早的,。

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