一、物理氣相沉積（PVD）鍍膜機

1.工作原理

在真空環(huán)境下,，通過加熱或離子轟擊等方式使鍍膜材料蒸發(fā)或濺射,，形成氣態(tài)原子或離子，然后這些氣態(tài)粒子在工件表面沉積并凝結(jié)成薄膜,。具體來說,，蒸發(fā)鍍膜是利用高溫熱源使鍍膜材料蒸發(fā)，氣態(tài)原子在工件表面冷凝形成薄膜,；濺射鍍膜則是利用高能離子束轟擊鍍膜材料靶材,，使靶材原子濺射出來，沉積在工件表面形成薄膜,。

2.結(jié)構

真空系統(tǒng)：由真空泵,、真空腔室等組成，用于創(chuàng)造并維持鍍膜所需的高真空環(huán)境,，以確保氣態(tài)鍍膜材料能夠在無干擾的情況下到達工件表面并沉積,。

蒸發(fā)或濺射源：根據(jù)不同的鍍膜方法，配備相應的蒸發(fā)源（如電阻加熱蒸發(fā)源,、電子束蒸發(fā)源等）或濺射源（如磁控濺射靶等）,，用于產(chǎn)生氣態(tài)的鍍膜材料。

工件架：用于放置待鍍膜的工件,，通?？梢孕D(zhuǎn)或擺動，以保證鍍膜的均勻性,。

監(jiān)控系統(tǒng)：包括薄膜厚度監(jiān)控儀等,，用于實時監(jiān)測鍍膜的厚度和質(zhì)量，以便精確控制鍍膜過程,。

二,、化學氣相沉積（CVD）鍍膜機

1.工作原理

利用氣態(tài)的化學物質(zhì)在高溫,、等離子體等條件下發(fā)生化學反應,，生成固態(tài)的薄膜物質(zhì)，并沉積在工件表面,。例如,，通過將含有鍍膜元素的氣體和反應氣體通入反應腔室，在加熱或其他激勵條件下,，氣體發(fā)生化學反應,，形成所需的薄膜材料并在工件表面沉積,。

2.結(jié)構

反應腔室：是化學反應發(fā)生的場所，通常由耐高溫,、耐腐蝕的材料制成,，內(nèi)部設有加熱裝置，可精確控制反應溫度,。

氣體供應系統(tǒng)：包括各種氣體的儲存罐,、流量計、閥門等,，用于精確控制通入反應腔室的氣體種類,、流量和比例。

尾氣處理系統(tǒng)：用于處理反應過程中產(chǎn)生的有害氣體,，以保護環(huán)境和操作人員的安全,。

工件承載裝置：用于放置工件，確保工件在反應過程中能夠均勻地接受氣體的作用,，以獲得均勻的鍍膜,。

控制系統(tǒng)：用于控制反應的溫度、氣體流量,、反應時間等參數(shù),，以保證鍍膜過程的穩(wěn)定性和重復性。