一、中國光刻機(jī)現(xiàn)在多少納米

2018年3月,，上海微電子的90nm光刻機(jī)項(xiàng)目通過正式驗(yàn)收,。也就是說，我們的國產(chǎn)光刻機(jī)目前可以做到90納米工藝,。

之前有網(wǎng)友爆料,，上海微電子將于2020年12月下線首臺(tái)采用ArF光源的SSA800/10W光刻機(jī)，這是一臺(tái)國產(chǎn)浸沒式DUV 光刻機(jī),，可實(shí)現(xiàn)單次曝光28nm節(jié)點(diǎn),。所以網(wǎng)絡(luò)里一直流傳著這個(gè)說法。不過對(duì)于此消息,，有人說是真的,，有人說是假的。讓人很是迷糊,。

上海微電子的確在做可以實(shí)現(xiàn)28納米制程的國產(chǎn)DUV光刻機(jī),。只是是否通過驗(yàn)收，到底何時(shí)能交付,，目前未知,。

28納米將會(huì)是我們國產(chǎn)光刻機(jī)的最高工藝水平，嚴(yán)格來說,，這個(gè)真的算不上高水平,，它的前面還有14、7,、5,、3、2,，甚至是1nm。

但是28納米是成熟工藝,，生產(chǎn)成本低,，只要不追求極致性能的情況下，這種制程的芯片,，其性能也夠用的,，用來生產(chǎn)我們?nèi)粘Ｉ钪械碾娮釉O(shè)備是沒有問題的，例如電視,、電視盒子,、音響,、電梯、空調(diào),、微波爐,、冰箱、汽車等等,。

另外,，根據(jù)研究機(jī)構(gòu)IC Insights發(fā)布的《2020-2024年全球晶圓產(chǎn)能》報(bào)告，預(yù)計(jì)到2024年,，半導(dǎo)體制程格局將出現(xiàn)10nm以下,，10-20nm，20nm以上工藝三分天下的格局,，各自市場(chǎng)占有率約為1/3,，而28nm以上的成熟工藝在未來四年的市場(chǎng)份額沒有明顯變化，仍然有很大的市場(chǎng),，所以無需盲目地追求制程工藝,。

二、中國高端光刻機(jī)什么時(shí)候能研制出來

很多人疑惑,，中國是世界上工業(yè)生產(chǎn)能力最強(qiáng)的國家,，為什么中國造不出高端的光刻機(jī)？其實(shí)最大的原因就是中國的工業(yè)是多而不精,。光刻機(jī)并不是一項(xiàng)技術(shù)的突破,，而是一整個(gè)光學(xué)領(lǐng)域絕大多數(shù)技術(shù)的突破。

目前全球最頂尖的光刻機(jī)接近200噸,，由差不多十萬個(gè)零件組成,。其中絕大多數(shù)都是核心零件，每一個(gè)零件都需要很多技術(shù)的突破才能做出來,。有工程師稱,，里面一些零件需要打磨十年才能誕生。

雖然最先進(jìn)的光刻機(jī)出自荷蘭,，但荷蘭公司也只是做一個(gè)組裝和調(diào)試的工作,，里面的核心零件來源于大多數(shù)西方國家。從美國到英國,，從法國到比利時(shí),，所有站在西方陣營的國家合在一起，才能造出一臺(tái)最頂尖的光刻機(jī),。所以中國要造最頂尖的光刻機(jī)并不是在和某一個(gè)國家對(duì)抗,，而是在和整個(gè)西方世界對(duì)抗。

這就好比班級(jí)考試，考試的科目有數(shù)百科,?？偝煽兒命c(diǎn)的學(xué)生固然能考出一個(gè)比較高的總成績，但是這個(gè)學(xué)生不能讓自己每一科的成績都達(dá)到最高,。和他相比,，那些成績不好的學(xué)生雖然偏科，但是他們總有一兩科自己擅長的科目,，這些科目總有得高分甚至是滿分的機(jī)會(huì),。這些學(xué)生最好的科目加起來，就能組成一個(gè)非常高的“各科總成績”,。

要造出最頂端的光刻機(jī),，就需要這些科目每一顆都得到極高的分?jǐn)?shù)甚至是滿分。所以中國的光刻機(jī)之路并不是突破幾項(xiàng)新技術(shù)就能走穩(wěn),、走好的,，中國需要在整個(gè)光學(xué)技術(shù)上的絕大多數(shù)技術(shù)中得到突破，才能以一個(gè)國家的科技實(shí)力對(duì)抗整個(gè)西方社會(huì),。

很多人疑惑中國什么時(shí)候能造出最頂尖的光刻機(jī),，這個(gè)問題的答案沒有任何人能給出來。中國在光刻機(jī)領(lǐng)域遇到的困難,，和中國當(dāng)年造原子彈時(shí),，沒有計(jì)算機(jī)，沒有離心機(jī),，沒有數(shù)據(jù)資料一樣困難,。當(dāng)年中國在美國造出原子彈接近9年后擁有了自己的原子彈，中國現(xiàn)在打算大力研制光刻機(jī)也是近兩年的事情,。

就目前來說,，我國最頂尖的光刻機(jī)也就是國際上2005年左右的光刻機(jī)最頂尖水平，差距在15年左右,。所以很多人認(rèn)為,，我國應(yīng)該會(huì)在十來年左右達(dá)到讓自己的光刻機(jī)達(dá)到國際社會(huì)的最頂尖水平。