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2025年光刻機(jī)品牌

光刻機(jī)品牌排行榜,半導(dǎo)體光刻機(jī)企業(yè)排行,光刻機(jī)有哪些品牌
光刻機(jī)哪個(gè)好,?經(jīng)專業(yè)評測的2025年光刻機(jī)名單發(fā)布啦,!居前四的有:ASML阿斯麥、Nikon,、Canon,、SMEE等,,上榜光刻機(jī)四大榜單和著名光刻機(jī)名單的是口碑好或知名度高、有實(shí)力的,,排名不分先后,,僅供借鑒參考,想知道哪個(gè)光刻機(jī)好,?您可以多比較,,選擇自己滿意的!光刻機(jī)品牌主要屬于商標(biāo)分類的第7類,。榜單更新時(shí)間:2025年06月18日(每月更新)
十大品牌榜
人氣榜
口碑點(diǎn)贊榜
榮譽(yù)勛章榜
關(guān)注榜
  • NO.1
    ASML阿斯麥
    阿斯麥(上海)光刻設(shè)備科技有限公司
    3個(gè)行業(yè)上榜十大品牌
    成立時(shí)間1984年
    注冊資本2顆星
    關(guān)注度1萬+
    品牌得票1萬+
    荷蘭
    品牌指數(shù)88.3
    評分8.9 口碑指數(shù)622 已點(diǎn)亮標(biāo)簽7個(gè)   未點(diǎn)亮標(biāo)簽7個(gè)
    ASML創(chuàng)立于1984年,,全球芯片光刻設(shè)備市場領(lǐng)導(dǎo)者,是全球最大的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商之一,,ASML于2000年推出TWINSCAN光刻機(jī),,2010年成功研發(fā)首臺EUV光刻機(jī),是當(dāng)前唯一可以生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,。ASML在全球10余個(gè)國家設(shè)有60余個(gè)辦公室,。查看更多>>
  • NO.2
    Nikon
    尼康精機(jī)(上海)有限公司
    2個(gè)行業(yè)上榜十大品牌
    1個(gè)行業(yè)品牌金鳳冠
    注冊資本3顆星
    關(guān)注度2832+
    品牌得票1萬+
    日本
    品牌指數(shù)87.1
    評分9 口碑指數(shù)2244 已點(diǎn)亮標(biāo)簽7個(gè)   未點(diǎn)亮標(biāo)簽5個(gè)
    Nikon光刻機(jī)隸屬尼康精機(jī)事業(yè)部,研制用于半導(dǎo)體生產(chǎn)的半導(dǎo)體光刻設(shè)備的開發(fā)與研究,,Nikon光刻機(jī)業(yè)務(wù)涵蓋ArFi光刻機(jī),、ArF光刻機(jī)、KrF光刻機(jī),、i-line光刻機(jī)系列集成電路用光刻機(jī)及面板用光刻機(jī),,是全球范圍內(nèi)較大的光刻機(jī)制造商。查看更多>>
  • NO.3
    Canon
    佳能光學(xué)設(shè)備(上海)有限公司
    1個(gè)行業(yè)上榜十大品牌
    1個(gè)行業(yè)品牌金鳳冠
    注冊資本3顆星
    關(guān)注度1972+
    品牌得票7247+
    日本
    品牌指數(shù)85.9
    評分9 口碑指數(shù)2102 已點(diǎn)亮標(biāo)簽7個(gè)   未點(diǎn)亮標(biāo)簽5個(gè)
    佳能光刻機(jī)歷史源于Canon對相機(jī)鏡頭技術(shù)的應(yīng)用,,Canon于1970年成功發(fā)售日本首臺半導(dǎo)體光刻機(jī)PPC-1,,目前佳能的光刻機(jī)產(chǎn)品包括i線光刻機(jī)和KrF光刻機(jī)產(chǎn)品線,佳能光學(xué)設(shè)備是佳能公司在中國大陸地區(qū)成立的提供半導(dǎo)體及液晶面板生產(chǎn)設(shè)備營業(yè)輔助業(yè)務(wù)和技術(shù)支持業(yè)務(wù)的公司,。查看更多>>
  • NO.4
    SMEE
    上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司
    國家企業(yè)技術(shù)中心
    國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè)
    2個(gè)行業(yè)上榜十大品牌
    4個(gè)行業(yè)品牌金鳳冠
    成立時(shí)間2002年
    注冊資本4顆星
    關(guān)注度3萬+
    品牌得票1萬+
    上海市
    品牌指數(shù)84.6
    評分9 口碑指數(shù)670 已點(diǎn)亮標(biāo)簽10個(gè)   未點(diǎn)亮標(biāo)簽8個(gè)
    SMEE成立于2002年,,是國產(chǎn)半導(dǎo)體光刻設(shè)備領(lǐng)域佼佼者,主要致力于半導(dǎo)體裝備,、泛半導(dǎo)體裝備,、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計(jì),、制造,、銷售及技術(shù)服務(wù),廣泛應(yīng)用于集成電路前道,、先進(jìn)封裝,、FPD面板、MEMS,、LED,、Power Devices等制造領(lǐng)域,。查看更多>>
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品牌榜:2025年光刻機(jī)十大品牌排行榜 投票結(jié)果公布【新】
2025年最新的光刻機(jī)品牌榜發(fā)布了,,此次光刻機(jī)品牌榜共收集了光刻機(jī)行業(yè)超過4個(gè)品牌信息及19300個(gè)網(wǎng)友的投票做為參考,榜單由CN10排排榜技術(shù)研究部門和CNPP品牌數(shù)據(jù)研究部門提供數(shù)據(jù)支持,,綜合分析了光刻機(jī)行業(yè)品牌的知名度,、員工數(shù)量、企業(yè)資產(chǎn)規(guī)模與經(jīng)營情況等各項(xiàng)實(shí)力數(shù)據(jù)經(jīng)人工智能和品牌研究員專業(yè)測評而得出,,僅供方便用戶找到好的品牌參考使用,,具體榜單請按最新更新數(shù)據(jù)為準(zhǔn)。
中國光刻機(jī)現(xiàn)在多少納米 中國高端光刻機(jī)什么時(shí)候能研制出來
光刻機(jī)是制造芯片的關(guān)鍵設(shè)備,,是世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一,,也是工時(shí)和成本占比最高的設(shè)備,更是全球頂尖技術(shù)和人類智慧的結(jié)晶,,目前世界上只有3個(gè)國家有能力制造出光刻機(jī),,我國就是其中一個(gè)。那么,,中國光刻機(jī)現(xiàn)在多少納米,?中國高端光刻機(jī)什么時(shí)候能研制出來?
光刻機(jī)多少錢一臺 一臺光刻機(jī)一天能生產(chǎn)多少芯片
光刻機(jī)是我國現(xiàn)代技術(shù)的一個(gè)短板,,在芯片技術(shù)的發(fā)展上,,我國也一直受國外的制裁。但是對于現(xiàn)代工業(yè)來說,,芯片是核心中的核心,,沒有了芯片,很多產(chǎn)品都有可能陷入癱瘓當(dāng)中,。那么光刻機(jī)多少錢一臺,?一臺光刻機(jī)一天能生產(chǎn)多少芯片,?
制造芯片一定要光刻機(jī)嗎 蝕刻機(jī)能代替光刻機(jī)嗎
芯片堪稱工業(yè)的糧食,,是科技時(shí)代的重要生產(chǎn)力,手機(jī),、電腦及數(shù)碼產(chǎn)品都離不開芯片的支撐,,而制造芯片的重要設(shè)備之一就是光刻機(jī),,但是光刻機(jī)很稀缺,全球只有3個(gè)國家能造,,那么制造芯片一定要光刻機(jī)嗎,?蝕刻機(jī)能代替光刻機(jī)嗎?下面來了解下,。
光刻機(jī)哪個(gè)國家的最好 為什么荷蘭能夠造出頂級的光刻機(jī)
光刻機(jī)是一個(gè)非常尖端的工藝技術(shù),,目前僅有少數(shù)國家能研制光刻機(jī),那么光刻機(jī)哪個(gè)國家的最好,?在高端光刻機(jī)領(lǐng)域,,荷蘭是領(lǐng)頭羊,很多發(fā)達(dá)國家都嚴(yán)重依賴荷蘭的光刻機(jī),,在光刻機(jī)領(lǐng)域有著絕對的話語權(quán),。為什么荷蘭能夠造出頂級的光刻機(jī)?下面來了解下,。
光刻機(jī)中國能造嗎 國產(chǎn)光刻機(jī)和荷蘭光刻機(jī)的差距在哪里
光刻機(jī)是光刻工藝的核心設(shè)備,,光刻的工藝水平直接決定芯片的制程和性能水平,目前光刻機(jī)做的最好的國家就是荷蘭,,我國雖然也有研制光刻機(jī)的能力,,但國產(chǎn)光刻機(jī)與國外頂尖光刻機(jī)存在的差距比較明顯。下面來了解下國產(chǎn)光刻機(jī)和荷蘭光刻機(jī)的差距,。
光刻機(jī)哪個(gè)國家能造 光刻機(jī)的難度在哪里
光刻機(jī)被譽(yù)為“現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花”,,號稱比研制原子彈還困難!全球只有3個(gè)國家能造,。在全球高端光刻機(jī)市場,,荷蘭達(dá)到全球領(lǐng)先水平,除了荷蘭,,日本,、中國也可以制造光刻機(jī)。但我國一直被西方國家牢牢“卡脖子”,,至今都沒能突破尖端技術(shù),。那么,研制光刻機(jī)的難度在哪里,?
光刻機(jī)的種類有哪些 光刻機(jī)怎么制造芯片
光刻機(jī)顧名思義就是“用光來雕刻的機(jī)器”,,是芯片產(chǎn)業(yè)中寶貴且技術(shù)難度最大的機(jī)器。光刻機(jī)的種類有哪些,?光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,有接觸式曝光,、接近式曝光,、投影式曝光等光刻機(jī)。光刻機(jī)怎么制造芯片,?下面來了解下,。
光刻機(jī)是誰發(fā)明的 光刻機(jī)制造需要哪些技術(shù)
光刻機(jī)是一種高精密芯片制造設(shè)備,如果想要自主生產(chǎn)芯片,,光刻機(jī)是必要的,。那么光刻機(jī)是誰發(fā)明的?光刻機(jī)是法國人Nicephore niepce尼埃普斯發(fā)明的,,現(xiàn)已成為半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的主要生產(chǎn)設(shè)備,。光刻機(jī)制造需要哪些技術(shù)?下面來了解下,。
光刻機(jī)和芯片有什么關(guān)系 光刻機(jī)和芯片哪個(gè)更難
光刻機(jī)和芯片有什么關(guān)系,?在芯片制造過程中是離不開光刻機(jī)的,光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備,,芯片的集成水平取決于光刻機(jī)的精度,。光刻機(jī)和芯片哪個(gè)更難?都很難的,,不過光刻機(jī)難度最大,,目前我國只能自主量產(chǎn)90納米光刻機(jī),與荷蘭的差距還很大,。
光刻機(jī)的工作原理及關(guān)鍵技術(shù)

一,、光刻機(jī)是干什么用的

光刻機(jī)是用來制造芯片的。光刻機(jī)又被稱為掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī),,在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝,,而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步,所以光刻機(jī)又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備,。

光刻機(jī)決定了芯片的精密尺寸,,設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)好芯片線路,再通過光刻機(jī)將線路刻在芯片上,,其尺度通常在微米級以上,。

光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)中最昂貴也是技術(shù)難度最大的設(shè)備,因?yàn)槠錄Q定了一塊芯片的整體框架與功能,。

其實(shí)生產(chǎn)高精度芯片并不難,,只是生產(chǎn)速度太慢,而光刻機(jī)能快速生產(chǎn)高精度的芯片,,所以很重要,。

二,、光刻機(jī)的工作原理

利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化,,從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上,從而使薄片具有電子線路圖的作用,。這就是光刻的作用,,類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝的照片是印在底片上,,而光刻刻的不是照片,,而是電路圖和其他電子元件。

簡單點(diǎn)來說,,光刻機(jī)就是放大的單反,,光刻機(jī)就是將光罩上的設(shè)計(jì)好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上,形成圖形,。

三,、光刻機(jī)的性能指標(biāo)

光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)有:支持基片的尺寸范圍,分辨率,、對準(zhǔn)精度,、曝光方式、光源波長,、光強(qiáng)均勻性,、生產(chǎn)效率等。

分辨率是對光刻工藝加工可以達(dá)到的最細(xì)線條精度的一種描述方式,。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,,所以與光源、光刻系統(tǒng),、光刻膠和工藝等各方面的限制,。

對準(zhǔn)精度是在多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。

曝光方式分為接觸接近式,、投影式和直寫式,。

曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,,光源有汞燈,,準(zhǔn)分子激光器等。

四,、光刻機(jī)制造需要哪些技術(shù)

光刻機(jī)的制造體系非常復(fù)雜,,有兩點(diǎn)至關(guān)重要,即精密零部件和組裝技術(shù),。

1,、精密零部件

一臺光刻機(jī)的制造需要數(shù)萬個(gè)精密零部件。通常來說,一臺光刻機(jī)的制造需要大約八萬個(gè)精密零件,,而目前世界上最為先進(jìn)的極紫外EUV光刻機(jī)所需要的制造零件更是高達(dá)十萬余個(gè),。

一套完整的光刻機(jī)包括多個(gè)組成系統(tǒng),主要包括曝光系統(tǒng),、自動對準(zhǔn)系統(tǒng),、整機(jī)軟件系統(tǒng)等。其中,,曝光系統(tǒng)更是包含了照明系統(tǒng)和投影物鏡,。

在組成光科技的所有核心精密零件中,光學(xué)鏡頭,、光學(xué)光源,、雙工作臺又可以說是核心中的核心。

擁有高數(shù)值孔徑的光學(xué)鏡頭是決定光刻機(jī)的分辨率和閾值誤差能力,。而分辨率和套值誤差能力對于一臺品牌光刻機(jī)具有至關(guān)重要的重要性,。而世界上最為先進(jìn)的EUV極紫外光刻機(jī)唯一可以使用的鏡頭就是由蔡司公司生產(chǎn)的鏡頭。

光刻機(jī)的光學(xué)光源所包含的光源波長是決定光刻機(jī)工業(yè)能力的重要部分,。需要特別注意的是,,光刻機(jī)所需要的光源,必須具備體積小,、功率高以及穩(wěn)定的幾個(gè)特點(diǎn),。

比如說極紫外EUV光刻機(jī)所使用的光源波長是僅僅只有13.5納米的極紫外光,其所使用的光學(xué)系統(tǒng)極為復(fù)雜,。

光刻機(jī)中所需要的工作臺系能夠影響光刻機(jī)運(yùn)行過程中的精度和產(chǎn)效,,含有的綜合技術(shù)難度非常高。因?yàn)檫@種工作臺中具有承載硅片來能夠完成光刻機(jī)運(yùn)行過程中的一系列超精密的運(yùn)動系統(tǒng),,其中包括上下片,、對準(zhǔn)、景圓面型測量,、曝光等等,。

2、組裝技術(shù)

一臺光刻機(jī)不僅需要精密的零件,,這些零件的組裝技術(shù)也至關(guān)重要,。

當(dāng)所有零件都準(zhǔn)備就緒之后,接下來的組裝過程將直接影響一個(gè)光刻機(jī)的運(yùn)行效能?,F(xiàn)在光刻機(jī)主要生產(chǎn)商荷蘭ASML公司(中文譯名:阿斯麥爾)的生產(chǎn)過程從本質(zhì)上來說更像是一個(gè)零件組裝公司,,因?yàn)锳SML公司生產(chǎn)光刻機(jī)所需要的將近90%的部件是從世界各地采購,其在世界上擁有超過五千家供應(yīng)商,。

換句話說,,ASML公司之所以能夠在光刻機(jī)制造技術(shù)上打敗尼康以及佳能等其他光刻機(jī)生產(chǎn)對手,,從而在全球光刻機(jī)制造和銷售市場上占據(jù)領(lǐng)先地位,一個(gè)重要原因就是強(qiáng)大的組裝技術(shù),。

一家強(qiáng)大的光刻機(jī)組裝企業(yè)需要具有各種嫻熟的技術(shù)工人和各種組裝方面的知識產(chǎn)權(quán),,從而能夠清楚明白各種精密元件如何組裝,進(jìn)而通過他們嫻熟的操作和系統(tǒng)的知識來快速和精確的制造一臺光刻機(jī),。

我國目前在光刻機(jī)的技術(shù)方面,,經(jīng)過近二十年的關(guān)鍵技術(shù)攻克,已經(jīng)取得長足發(fā)展,。

從光刻機(jī)雙工作臺來說,中國華卓精科與清華團(tuán)隊(duì)生產(chǎn)聯(lián)合研制的雙工作臺已經(jīng)打破ASML的技術(shù)壟斷,,至于光刻機(jī)的同步光源設(shè)備和光學(xué)鏡頭的技術(shù)也在哈工大等全國知名科研機(jī)構(gòu)的潛心研究中獲得了迅猛發(fā)展,。

可以說,目前我國人才,、資源,、資金等各個(gè)方面都已具備,未來我們擁有屬于自己的光刻機(jī)只是時(shí)間問題,,未來前景可期,!