一、光刻膠怎么保存

1,、溫度：光刻膠應存放在低溫環(huán)境下,，一般建議存放在-20℃以下的冰箱中，避免光刻膠受熱變質(zhì),。同時,，光刻膠在存放和使用過程中應避免受到溫度變化的影響，以免影響其性能和質(zhì)量,。

2,、光照：光刻膠應避免直接暴露在強光下，以免光刻膠受到光照而失去靈敏度,。因此,，在存放和使用光刻膠時，應盡量避免光照,，可以使用黑色遮光袋或黑色遮光箱進行保護,。

3、濕度：光刻膠應存放在干燥的環(huán)境中,，避免受潮,。因為潮濕的環(huán)境會影響光刻膠的性能和質(zhì)量，甚至會導致光刻膠失效,。因此,，在存放和使用光刻膠時，應盡量避免受潮,，可以使用密封袋或密封容器進行保護,。

4、震動：光刻膠應避免受到劇烈的震動和振動,，以免影響其性能和質(zhì)量,。因此，在存放和使用光刻膠時,，應盡量避免受到震動和振動,，可以使用泡沫箱或其他緩沖材料進行保護。

二,、光刻膠使用和儲存注意事項

1、保存

光刻膠中的光敏組分是非常脆弱的,，除了有溫度的要求外,，對于儲存時間和外包裝材料有很嚴格的要求。一般使用棕色的玻璃瓶包裝，再套上黑色塑料袋,。

光刻膠的保存期限一般為6個月至1年左右,，具體時間取決于光刻膠的種類和保存條件。因此,，在存放和使用光刻膠時,，應注意光刻膠的保存期限，避免使用過期光刻膠,。

2,、光刻膠的涂布溫度

光刻膠涂布溫度一般要和室溫相同，原因是與室溫相同可以大減少光刻膠的溫度波動,，從而減少工藝波動,。而凈化間室溫一般是23度，所以光刻膠涂布溫度一般為23度,。一般在旋涂的情況下,，高于會中間厚，低于會中間薄,。同時涂布前,，wafer也需要冷板，保證每次涂布wafer的溫度一致,。

3,、涂布時濕度的控制

現(xiàn)在光刻膠涂覆工段一般都與自動純水清洗線連在一起，很多時候都只考慮此段的潔凈度,，而疏忽了該段的濕度控制,，使得光刻膠涂覆的良品率比較低，在顯影時光刻膠脫落嚴重,，起不到保護阻蝕的效果,。

4、涂膠后產(chǎn)品的放置時間的控制

在生產(chǎn)設備出現(xiàn)故障等特殊情況下,，涂完光刻膠的產(chǎn)品需要保留,，保留的時間一般不超過8小時，曝光前如已被感（即膠膜已失效）,，不能作為正品,，需返工處理。

5,、前烘溫度和時間的控制

前烘的目的是促使膠膜內(nèi)溶劑充分揮發(fā),，使膠膜干燥以增強膠膜與基板表面的粘附性和膠膜的耐磨性。曝光時,，掩模版與光刻膠即使接觸也不會損傷光刻膠膜和沾污掩模膜,，同時只有光刻膠干凈,、在曝光時，光刻膠才能充分地和光發(fā)生反應,。同時注意前烘的溫度不能過高,，過高會造成光刻膠膜的碳化，從而影響光刻效果,。一般情況下,，前烘的溫度取值比后烘堅膜溫度稍低一些，時間稍短一些,。

6,、顯影條件的控制

顯影時必須控制好顯影液的溫度、濃度及顯影的時間,。在一定濃度下的顯影液中,，溫度和時間直接影響的速度，若顯影時間不足或溫度低,，則感光部位的光刻膠不能夠完全溶解,，留有一層光刻膠，在刻蝕時,，這層膠會對膜面進行保護作用,，使應該刻蝕的膜留下來。若顯影時間過長或溫度過高,，顯影時未被曝光部位的光刻膠也會被從邊緣里鉆溶,。使圖案的邊緣變差，再嚴重會使光刻膠大量脫落,，形成脫膠,。