一、KrF光刻膠是什么

光刻膠根據(jù)不同的曝光光源分為不同的類型,，曝光光源從寬譜紫外線發(fā)展到I線（365nm）,、KrF線（248nm）、ArF線（193nm）以及EUV（13.5nm）光源,，而不同的光源要求使用不同的光刻膠,。KrF光刻膠就是運用KrF（248nm）曝光光源時所需要的光刻膠。KrF光刻膠主要應用于0.13m以上線寬,，包含離子注入層,，抗刻蝕層等多種工藝中。

二,、arf光刻膠是什么

ArF光刻膠,，是半導體光刻膠的一種，屬于高端光刻膠產(chǎn)品,，用來制造12英寸大硅片（硅晶圓）,。在光刻膠產(chǎn)品中，半導體光刻膠技術(shù)壁壘最高,；在半導體光刻膠產(chǎn)品中,，ArF光刻膠是技術(shù)含量最高的產(chǎn)品之一。ArF光刻膠是第四代光刻膠,，行業(yè)進入技術(shù)壁壘高,，全球量產(chǎn)企業(yè)數(shù)量少。

三,、krf光刻膠和arf光刻膠區(qū)別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導體領(lǐng)域,，二者最大區(qū)別是光刻膠的光源波長不同，其中krf波長為248nm,，arf波長為193nm,，arf光刻膠的分辨率更好,，技術(shù)含量更高。arf和krf都屬于深紫外光范疇,，也都是duv光刻機應用光源,，但是光源技術(shù)上相差一代。另外,，由于光源波長不同,，krf光刻膠和arf光刻膠也不能通用。