一,、KrF光刻膠是什么

光刻膠根據(jù)不同的曝光光源分為不同的類型,，曝光光源從寬譜紫外線發(fā)展到I線（365nm）、KrF線（248nm）,、ArF線（193nm）以及EUV（13.5nm）光源,，而不同的光源要求使用不同的光刻膠。KrF光刻膠就是運(yùn)用KrF（248nm）曝光光源時所需要的光刻膠,。KrF光刻膠主要應(yīng)用于0.13m以上線寬,，包含離子注入層，抗刻蝕層等多種工藝中,。

二,、arf光刻膠是什么

ArF光刻膠，是半導(dǎo)體光刻膠的一種,，屬于高端光刻膠產(chǎn)品,，用來制造12英寸大硅片（硅晶圓）。在光刻膠產(chǎn)品中,，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘最高,；在半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品中，ArF光刻膠是技術(shù)含量最高的產(chǎn)品之一,。ArF光刻膠是第四代光刻膠,，行業(yè)進(jìn)入技術(shù)壁壘高,，全球量產(chǎn)企業(yè)數(shù)量少。

三,、krf光刻膠和arf光刻膠區(qū)別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導(dǎo)體領(lǐng)域,，二者最大區(qū)別是光刻膠的光源波長不同，其中krf波長為248nm,，arf波長為193nm,，arf光刻膠的分辨率更好，技術(shù)含量更高,。arf和krf都屬于深紫外光范疇,，也都是duv光刻機(jī)應(yīng)用光源，但是光源技術(shù)上相差一代,。另外,，由于光源波長不同，krf光刻膠和arf光刻膠也不能通用,。